MD40-54-加熱制冷循環(huán)器(-40℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。
加熱制冷循環(huán)器(-20℃~180℃) 加熱制冷循環(huán)器實現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。
加熱制冷循環(huán)器MD40-20$n提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。
加熱制冷浴槽(-30℃~90℃),MD30-100可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用。
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